书目详细信息
： 半导体微纳制造技术及器件
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-03-066146-3:CNY139.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 半导体微纳制造技术及器件/.云峰, 李强, 王晓亮著 |
| 出版发行项： | 北京:,科学出版社:,2020.09 |
| 载体形态项： | 278页, [8] 页图版:;+图,表:;+25cm |
| 丛编项： | 先进光电子科学与技术丛书 |
| 提要文摘： | 本书基于课题组的研究成果和研究方向，对目前主流采用的半导体微纳制造技术进行归纳，结合已得到验证的理论进行部分机理的论述，结合半导体微纳光电器件的发展现状阐述半导体微纳器件的应用及发展趋势。首先对半导体微纳器件的制造技术从图形化衬底技术、外延生长技术和刻蚀技术三方面进行系统的概述，然后对器件的电注入机理及等离子基元局域增强效应进行机理论述，最后结合新型半导体器件归纳半导体微纳器件的功能及发展。 |
| 题名主题： | 半导体电子学 微电子技术 |
| 中图分类： | TN301 |
| 个人名称等同： | 云峰 著 |
| 个人名称等同： | 李强 著 |
| 个人名称等同： | 王晓亮 著 |
| 记录来源： | CN NMU 20201022 |
| 记录来源： | CN YNAU 20210511 |