书目详细信息
： 极紫外光刻
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-5478-5721-2:CNY128.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi eng |
| 出版国别： | CN 310000 |
| 题名责任者项： | 极紫外光刻/.(美) 哈利·杰·莱文森著/.Harry J. Levinson/.高伟民译 |
| 出版发行项： | 上海:,上海科学技术出版社:,2022.09 |
| 载体形态项： | 206页:;+图 (部分彩图):;+24cm |
| 提要文摘： | 本书是一本论述极紫外光刻 (extreme ultraviolet lithography, EUV) 技术的最新专著。该书全面而又精炼地介绍了极紫外光刻技术的各个方面及其发展历程, 不仅涵盖极紫外光源、极紫外光刻曝光系统、极紫外掩模板、极紫外光刻胶、极紫外计算光刻等方面, 还介绍了极紫外光刻生态系统的其他方面, 如极紫外光刻工艺特点和工艺控制、极紫外光刻量测的特殊要求, 以及对技术发展路径有着重要影响的极紫外光刻的成本分析等内容。最后, 本书还对满足未来芯片工艺节点要求的极紫外光刻技术的发展方向进行了探讨。 |
| 题名主题： | 紫外线 光刻系统 研究 |
| 中图分类： | TN305.7 |
| 个人名称等同： | 莱文森 著 |
| 个人名称次要： | 高伟民 译 |
| 记录来源： | CN YNAU 20230808 |